[內外層共用][半自動]
平行光曝光機

[內外層共用][半自動]
平行光曝光機

產品型號:UVE-M565F
  1. 適用範圍:
    製程板尺寸:305x355mm(12″x14″)~546x622mm(21.5″~24.5″)
    製程板厚度:0.1~3.2mm
    底片尺寸:24″x27″
  2. 機台外型(W/D/H):1545/3513/2270(mm)
  1. 高解析台框設計
  2. 4或2CCD自動對位
  3. 左右對照式保護光閘設計
  4. 高產速、高產能
  5. 曝光均勻度達85%以上
  6. 底片更換時間≦5min
  7. 曝光室溫度控制22℃±2℃,溼度控制55%±5%

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