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散射光大檯面曝光機

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散射光大檯面曝光機

產品型號:UVE-A282
  1. 適用範圍:
    製程板尺寸:254x305mm~609.6x762mm(10″x12″~24”~30″)
    製程板厚度:0.05~2mm
    底片尺寸:26″x32″
  2. 機台外型(W/D/H):3540/2750/2305(mm)
  1. 高精度:檯面對位精度3σ<10μm
  2. 入料傳動為非接觸式磁環設計+SUS拋光滾輪
  3. 高剛性底座與帶板結構,強化機台穩定性
  4. 伸縮式視覺與背光模組,提高最大板邊利用率
  5. 高解析台框設計
  6. 新型對位演算法,保證均分底片誤差
  7. 散射光使用低耗能6kw燈管
  8. 雙面同時曝光

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