[內外層共用][自動]
平行光曝光機

[內外層共用][自動]
平行光曝光機

產品型號:UVE-A265
  1. 適用範圍:
    製程板尺寸:305x356mm(12″x14″)~558x635mm(22″~25″)
    製程板厚度:0.05~3.0mm
    底片尺寸:24″x27″
  2. 機台外型(W/D/H):3010/2913/2394(mm)
  1. 內/外層共用雙面曝光
  2. 底片自動對位可選擇單/多片對位
  3. 曝光室Class1000無塵等級
  4. 曝光室獨特環境控制系統,有效增加AW穩動度
  5. 入料模組採用SUS304表面研磨處理滾筒
  6. 磁力環驅動入出料滾同確保不產塵
  7. 曝光檯面重複精度±5μm
  8. 下框升降人性化的操作空間
  9. 夾具機構預對位實現外層板同時雙面曝光設計
  10. 線性馬傳輸系統,提高無塵度、精度、速度
  11. 高剛性底座強化機台穩定性

檔案下載

返回頂端